| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開平１１−９４７５３ | 基板検査装置 |
| 特開平１１−９４７５４ | 基板検査装置 |
| 特開平１１−９４７５５ | 基板の振動防止機構 |
| 特開平１１−９４７５６ | 基板検査装置 |
| 特開平１１−９４７５７ | 透明体の検査方法、検査装置、および検査システム |
| 特開平１１−９４７５８ | シャドウマスクの欠陥検査方法及び装置 |
| 特開平１１−９４７５９ | パターン検査装置 |
| 特開平１１−９４７６０ | 欠陥検出用顕微鏡 |
| 特開平１１−９４７６１ | パターン検査装置 |
| 特開平１１−９４７６２ | ビア孔形状検査装置 |
| 特開平１１−９４７６３ | 画像処理による欠陥検出方法および装置 |
| 特開平１１−９４７６４ | 外観検査装置 |
| 特開平１１−９４７６５ | キセノン放電管の外観検査システム及びキセノン放電管の外観検査方法 |
| 特開平１１−９４７６６ | 地合検査方法および装置 |
| 特開平１１−９４７６７ | 地合検査方法および装置 |
| 特開平１１−９４７６８ | 容器の底部検査装置 |
| 特開平１１−９４７６９ | キャビテーション検出装置及び超音波による媒質変化検出装置 |
| 特開平１１−９４７７０ | 高真空ＸＡＦＳ測定装置 |
| 特開平１１−９４７７１ | 試料高温加熱型高真空ＸＡＦＳ測定装置 |
| 特開平１１−９４７７２ | 結晶加工装置、結晶方位決定装置及び結晶方位決定方法 |
| 特開平１１−９４７７３ | Ｘ線解析装置 |
| 特開平１１−９４７７４ | 蛍光Ｘ線分析方法および装置 |
| 特開平１１−９４７７５ | 蛍光Ｘ線分析方法 |
| 特開平１１−９４７７６ | 蛍光Ｘ線分析用の試料ホルダ |
| 特開平１１−９４７７７ | Ｘ線スペクトル分析装置とその自動定量分析方法 |
| 特開平１１−９４７７８ | 超高真空装置 |
| 特開平１１−９４７７９ | 飛行時間型光電子分光装置 |
| 特開平１１−９４７８０ | 仕事関数測定方法、仕事関数測定装置、及び試料ホルダ |
| 特開平１１−９４７８１ | 光学装置 |
| 特開平１１−９４７８２ | 非接触半田付け検査方法及びその装置 |
| 特開平１１−９４７８３ | ガスセンサ |
| 特開平１１−９４７８４ | ガスセンサ |
| 特開平１１−９４７８５ | 湿度センサ |
| 特開平１１−９４７８６ | 酸化錫ガスセンサーおよび製造方法 |
| 特開平１１−９４７８７ | 測定装置 |
| 特開平１１−９４７８８ | コンクリート表面電位の測定方法 |
| 特開平１１−９４７８９ | 計測用センサにおける不純物の付着防止装置 |
| 特開平１１−９４７９０ | バイオセンサ |
| 特開平１１−９４７９１ | バイオセンサ |
| 特開平１１−９４７９２ | 酸素ポンプセル及びその製造方法 |
| 特開平１１−９４７９３ | 光走査型二次元濃度分布測定装置 |
| 特開平１１−９４７９４ | 被測定ガス中のＮＯｘ濃度の測定方法 |
| 特開平１１−９４７９５ | 蛋白質染色検出方法 |
| 特開平１１−９４７９６ | 電気泳動用ゲル |
| 特開平１１−９４７９７ | 電気泳動ゲル板ビューア |
| 特開平１１−９４７９８ | 光検出電気泳動装置 |
| 特開平１１−９４７９９ | ガラスプローブ及びこれを用いたクロマトグラフ質量分析装置 |
| 特開平１１−９４８００ | 発生ガス分析方法及び分析装置 |
| 特開平１１−９４８０１ | 半導体素子の製造装置 |
| 特開平１１−９４８０２ | グロー放電質量分析法 |