| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開平１１−８０９２２ | 可溶性ガラス質材料溶射被覆部材およびその製造方法 |
| 特開平１１−８０９２３ | 転がり軸受およびその製造方法 |
| 特開平１１−８０９２４ | ロール，部品及びその製造方法並びに連続溶融金属めっき装置及びその運転方法 |
| 特開平１１−８０９２５ | 耐蝕性部材、ウエハー設置部材および耐蝕性部材の製造方法 |
| 特開平１１−８０９２６ | クロマイジングされた耐熱鋼、その製造方法および耐コーキングへの応用におけるその使用 |
| 特開平１１−８０９２７ | 真空成膜方法および装置 |
| 特開平１１−８０９２８ | 薄膜形成方法および装置 |
| 特開平１１−８０９２９ | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
| 特開平１１−８０９３０ | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
| 特開平１１−８０９３１ | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
| 特開平１１−８０９３２ | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
| 特開平１１−８０９３３ | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
| 特開平１１−８０９３４ | 酸化アルミニウム蒸着複合フィルムおよびその製造法 |
| 特開平１１−８０９３５ | 蒸着材料 |
| 特開平１１−８０９３６ | ブラックマトリクス用薄膜およびブラックマトリクス成膜用ターゲット |
| 特開平１１−８０９３７ | 薄膜形成方法および薄膜形成装置ならびに蒸発源ルツボ |
| 特開平１１−８０９３８ | 薄膜形成方法および薄膜形成装置ならびに蒸発源ルツボ |
| 特開平１１−８０９３９ | 薄膜の形成方法 |
| 特開平１１−８０９４０ | アーク式蒸発源 |
| 特開平１１−８０９４１ | 薄膜作製方法およびその薄膜付着製品 |
| 特開平１１−８０９４２ | Ｔａスパッタターゲットとその製造方法及び組立体 |
| 特開平１１−８０９４３ | マグネトロンスパッタカソード |
| 特開平１１−８０９４４ | スパッタ装置 |
| 特開平１１−８０９４５ | スパッタリング装置 |
| 特開平１１−８０９４６ | 積層型スパッタリング用ターゲット |
| 特開平１１−８０９４７ | イオン化スパッタ装置 |
| 特開平１１−８０９４８ | スパッタリング装置 |
| 特開平１１−８０９４９ | 半導体結晶成長装置及び半導体結晶成長方法 |
| 特開平１１−８０９５０ | ウェハをアラインメントさせる装置および方法 |
| 特開平１１−８０９５１ | 光学素子の膜形成用保持部材 |
| 特開平１１−８０９５２ | 酸化物薄膜の活性化反応蒸着法 |
| 特開平１１−８０９５３ | 基板の冷却状態検知方法 |
| 特開平１１−８０９５４ | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 |
| 特開平１１−８０９５５ | 酸化物の成膜方法 |
| 特開平１１−８０９５６ | 原料ガスの供給装置及びその供給方法 |
| 特開平１１−８０９５７ | 液体原料の気化装置 |
| 特開平１１−８０９５８ | 基板表面処理装置 |
| 特開平１１−８０９５９ | 気相成長装置 |
| 特開平１１−８０９６０ | 離型シートの製造方法 |
| 特開平１１−８０９６１ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| 特開平１１−８０９６２ | シリコンベースの基板上に多結晶材料を積層する方法 |
| 特開平１１−８０９６３ | アークプラズマ成膜装置用のノズルインジェクター |
| 特開平１１−８０９６４ | プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成装置 |
| 特開平１１−８０９６５ | 薄膜作成方法及び薄膜作成装置並びにプラズマ処理装置 |
| 特開平１１−８０９６６ | 無機化合物膜の製造方法 |
| 特開平１１−８０９６７ | めっき装置 |
| 特開平１１−８０９６８ | めっき装置 |
| 特開平１１−８０９６９ | 無電解銅めっき液への銅イオン供給方法 |
| 特開平１１−８０９７０ | 置換金めっき液及びそれを用いた置換金めっき方法 |
| 特開平１１−８０９７１ | 被膜特性に優れた絶縁被膜を有する無方向性電磁鋼板及びその製造方法並びにその製造に用いる絶縁被膜形成剤 |