| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開平１１−３１４６０ | 放電型平面表示装置 |
| 特開平１１−３１４６１ | カラー受像管及びその製造方法 |
| 特開平１１−３１４６２ | 陰極線管及びその色選別マスクの製造方法 |
| 特開平１１−３１４６３ | 陰極線管の色選別電極およびその製造方法 |
| 特開平１１−３１４６４ | カラー陰極線管の電子銃 |
| 特開平１１−３１４６５ | 受像管及びその製造方法 |
| 特開平１１−３１４６６ | 偏向ヨーク装置 |
| 特開平１１−３１４６７ | カラー陰極線管 |
| 特開平１１−３１４６８ | 蛍光表示管 |
| 特開平１１−３１４６９ | 電子銃 |
| 特開平１１−３１４７０ | 電子光学系 |
| 特開平１１−３１４７１ | 透過形電子顕微鏡 |
| 特開平１１−３１４７２ | 電子ビーム検査装置 |
| 特開平１１−３１４７３ | 質量分光計において分圧の測定を訂正する方法 |
| 特開平１１−３１４７４ | エネルギーアナライザ |
| 特開平１１−３１４７５ | 放電管用電極装置 |
| 特開平１１−３１４７６ | アマルガムセルおよび蛍光ランプ |
| 特開平１１−３１４７７ | 蛍光ランプ |
| 特開平１１−３１４７８ | 水冷型電極を有する高圧水銀ランプ |
| 特開平１１−３１４７９ | 放電管及び放電管の放電方法 |
| 特開平１１−３１４８０ | 誘電体バリヤ放電ランプ用放電体、誘電体バリヤ放電ランプ、誘電体バリヤ放電ランプ装置および紫外線照射装置 |
| 特開平１１−３１４８１ | 管型白熱電球 |
| 特開平１１−３１４８２ | 反射器付き電球 |
| 特開平１１−３１６３９ | 半導体製造装置 |
| 特開平１１−３１６４０ | 貼り合わせＳＯＩ基板の作製方法 |
| 特開平１１−３１６４１ | 半導体製造装置用クリーニング装置 |
| 特開平１１−３１６４２ | 基板処理装置および基板処理装置の固定方法 |
| 特開平１１−３１６４３ | スピンナー装置 |
| 特開平１１−３１６４４ | 近接露光に適用される位置検出装置及び位置検出方法 |
| 特開平１１−３１６４５ | 位置合わせマーク形成方法 |
| 特開平１１−３１６４６ | 周辺露光方法及び露光装置 |
| 特開平１１−３１６４７ | 投影露光装置 |
| 特開平１１−３１６４８ | 基板冷却装置 |
| 特開平１１−３１６４９ | パターン寸法と重ね合わせ精度の測定パターン及びその測定方法 |
| 特開平１１−３１６５０ | 反射防止膜、被処理基板、被処理基板の製造方法、微細パターンの製造方法、および半導体装置の製造方法 |
| 特開平１１−３１６５１ | 電子ビーム描画装置 |
| 特開平１１−３１６５２ | 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置 |
| 特開平１１−３１６５３ | 面位置検出装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| 特開平１１−３１６５４ | 基板の端縁処理装置 |
| 特開平１１−３１６５５ | マーク基板，マーク基板の製造方法，電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画装置の光学系の調整方法 |
| 特開平１１−３１６５６ | 荷電ビーム描画装置の調整方法 |
| 特開平１１−３１６５７ | 貫通孔および埋め込みパターンの形成方法、ビーム調整方法、ならびに荷電ビーム露光方法 |
| 特開平１１−３１６５８ | 近接効果補正方法及び近接効果補正装置 |
| 特開平１１−３１６５９ | 半導体装置の製造方法 |
| 特開平１１−３１６６０ | 半導体膜の作製方法及び半導体装置の作製方法 |
| 特開平１１−３１６６１ | 半導体ウエハ成膜装置 |
| 特開平１１−３１６６２ | 加熱処理装置およびそれを用いた半導体装置の製法 |
| 特開平１１−３１６６３ | ウェハ冷却装置及びその冷却方法 |
| 特開平１１−３１６６４ | 半導体装置の製造方法及び評価方法 |
| 特開平１１−３１６６５ | 半導体集積回路装置の製造方法 |