| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開平５−２３２６７９ | マスク製造方法及びマスク欠陥修正方法 |
| 特開平５−２３２６８０ | 位相シフト法用ホトマスクの製造方法及びこれに使用するホトマスク形成材 |
| 特開平５−２３２６８１ | 半導体装置製造用マスク |
| 特開平５−２３２６８２ | マスクパターン作成方法及び装置 |
| 特開平５−２３２６８３ | 位相推移フォトマスクの位相推移体の形成方法 |
| 特開平５−２３２６８４ | 位相シフト・リソグラフィマスクの作製 |
| 特開平５−２３２６８５ | 微細矩形用図形の転写方法 |
| 特開平５−２３２６８６ | ホトマスク |
| 特開平５−２３２６８７ | フォトマスク |
| 特開平５−２３２６８８ | フォトマスク基板 |
| 特開平５−２３２６８９ | ペリクル接着方法、ペリクル及びマスク |
| 特開平５−２３２６９０ | フォトマスク用ペリクル |
| 特開平５−２３２６９１ | Ｘ線光学素子の製造方法 |
| 特開平５−２３２６９２ | 網点面積率決定装置 |
| 特開平５−２３２６９３ | 熱現像感光材料およびそれを用いた画像形成方法 |
| 特開平５−２３２６９４ | 熱現像感光材料 |
| 特開平５−２３２６９５ | 感光性組成物 |
| 特開平５−２３２６９６ | ポジ型レジスト組成物 |
| 特開平５−２３２６９７ | ポジ型レジスト組成物 |
| 特開平５−２３２６９８ | リン含有親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性組成物 |
| 特開平５−２３２６９９ | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| 特開平５−２３２７００ | 感光性樹脂組成物 |
| 特開平５−２３２７０１ | 感光性樹脂組成物 |
| 特開平５−２３２７０２ | ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法 |
| 特開平５−２３２７０３ | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた画像記録材料 |
| 特開平５−２３２７０４ | ポジ型レジスト材料 |
| 特開平５−２３２７０５ | ポジ型レジスト材料 |
| 特開平５−２３２７０６ | 感放射線性樹脂組成物 |
| 特開平５−２３２７０７ | 乾式現像可能なフォトレジスト組成物およびその使用方法 |
| 特開平５−２３２７０８ | 感光性樹脂印刷版用粘着防止層組成物 |
| 特開平５−２３２７０９ | プリント配線基板パネルの写真処理用の写真型整列方法及び装置 |
| 特開平５−２３２７１０ | フォトマスク固定法 |
| 特開平５−２３２７１１ | プリント配線板の製造方法 |
| 特開平５−２３２７１２ | フレキソ版の洗浄・乾燥処理装置 |
| 特開平５−２３２７１３ | 湿し水不要感光性平版印刷版用版面修正液 |
| 特開平５−２３２７１４ | 露光工程における基板と原版との位置合わせ方法 |
| 特開平５−２３２７１５ | 電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法 |
| 特開平５−２３２７１６ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７１７ | 電子写真感光体の製造方法 |
| 特開平５−２３２７１８ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７１９ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７２０ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７２１ | 電子写真用感光体 |
| 特開平５−２３２７２２ | 正負両極性に感度を有する電子写真用感光体 |
| 特開平５−２３２７２３ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７２４ | 電子写真用感光体 |
| 特開平５−２３２７２５ | 電子写真感光体 |
| 特開平５−２３２７２６ | 電子写真用感光体 |
| 特開平５−２３２７２７ | ポリアリールアミンポリエステルを含む電子写真画像形成部材 |
| 特開平５−２３２７２８ | アモルファス・シリコン感光体 |